Zentraleinrichtung Elektronenmikroskopie (ZELMI)

Proben-Cleaner

Mit diesen Verfahren können organische Verunreinigungen von Proben oder Haltern beseitigt werden.

Plasma Prozessor Technics 100 E (HF-Leistung max. 300 W)

Mit Hilfe des Plasma-Cleaners können organische Verunreinigungen von Probenoberflächen entfernt werden. Bei einem Druck von etwa 1 mbar wird Sauerstoffgas in eine Prozeßkammer eingeleitet und durch Anlegen von Hochfrequenz ionisiert. Das so entstandene Plasma enthält hochreaktive Sauerstoffradikale, die in der Lage sind, organisches Material schon bei niedrigen Temperaturen bis max. 180°C zu oxidieren.

Hitachi Zone-SEM Proben Cleaner

Der ZONE-SEM beseitigt dünne Kohlenwasserstoffbelegungen von Probenoberflächen. Dabei wird die Probe unter Vakuum kurzwelliger UV-Strahlung ausgesetzt, wodurch die Kohlenwasserstoffbindungen aufgebrochen und mit aktiviertem Sauerstoff gebunden werden. Entstehendes H2O, CO und CO2 wird durch das Vakuumsystem entfernt. Die Verringerung von Kohlenwasserstoffschichten auf Proben verbessert die elektronenmikroskopische Abbildung, da weniger Kontaminationsartefakte entstehen. Dieses Verfahren kann für alle Proben angewendet werden außer für Materialien auf Kohlenwasserstoffbasis, da diese durch den Prozess beschädigt oder geätzt werden.

Parameter:
- Vakuum: 100 mbar
- Prozesszeit: 5 – 30 min