Proben-Cleaner
Mit diesen Verfahren können organische Verunreinigungen von Proben oder Haltern beseitigt werden.
Plasma Cleaner Fischione Instruments Model 1020
Die Reinigung erfolgt ausschließlich durch reaktive Gasverbindungen, die durch die chemische Reaktion des Plasmas mit kohlenstoffhaltigem Material auf der Probe und dem Probenhalter entstehen. Das Plasma wird mit einem Gasgemisch aus 25 % Sauerstoff und 75 % Argon erzeugt. Freie Elektronen werden durch ein oszillierendes elektromagnetisches Feld (13,56 MHz) auf eine hohe Geschwindigkeite beschleunigt, wodurch Gasatome angeregt werden und das Plasma entsteht. Die Plasma-Ionen treffen mit Energien von weniger als 12 eV auf die Oberfläche, was unterhalb der Sputterschwelle der Probe liegt.
Plasma Prozessor Technics 100 E (HF-Leistung max. 300 W)
Mit Hilfe des Plasma-Cleaners können organische Verunreinigungen von Probenoberflächen entfernt werden. Bei einem Druck von etwa 1 mbar wird Sauerstoffgas in eine Prozeßkammer eingeleitet und durch Anlegen von Hochfrequenz ionisiert. Das so entstandene Plasma enthält hochreaktive Sauerstoffradikale, die in der Lage sind, organisches Material schon bei niedrigen Temperaturen bis max. 180°C zu oxidieren.
Hitachi Zone-SEM Proben Cleaner
Der ZONE-SEM beseitigt dünne Kohlenwasserstoffbelegungen von Probenoberflächen. Dabei wird die Probe unter Vakuum kurzwelliger UV-Strahlung ausgesetzt, wodurch die Kohlenwasserstoffbindungen aufgebrochen und mit aktiviertem Sauerstoff gebunden werden. Entstehendes H2O, CO und CO2 wird durch das Vakuumsystem entfernt. Die Verringerung von Kohlenwasserstoffschichten auf Proben verbessert die elektronenmikroskopische Abbildung, da weniger Kontaminationsartefakte entstehen. Dieses Verfahren kann für alle Proben angewendet werden außer für Materialien auf Kohlenwasserstoffbasis, da diese durch den Prozess beschädigt oder geätzt werden.
Parameter:
- Vakuum: 100 mbar
- Prozesszeit: 5 – 30 min
