Zentraleinrichtung Elektronenmikroskopie (ZELMI)

Focused Ion Beam FEI Helios NanoLab

Das Zweistrahl Focussed Ion Beam Helios NanoLab ist ein Rasterelektronenmikroskop mit gleichzeitiger Präparationsmöglichkeit mittels Ionenstrahl

Nanowerkbank FEI/ThermoFischer Helios nanolab 600

Die Nanowerkbank, ein FIB/SEM Zweistrahlgerät, (Thermofisher HELIOS 600) vereint ein hochauflösendes Elektronen- und ein Ga-Ionenmikroskop und dient daher nicht nur der Analyse, sondern auch der Bearbeitung von Probenoberflächen.

Kontakt:

Sekretariat KWT 2
Raum KWT-A 103

Merkmale / Methodik

In das Gerät können verschiedene Prozessgase eingeleitet werden, welche entweder den Ionenabtrag vergrößern oder das Aufwachsen von Materialien ermöglichen Somit ist neben dem Haupteinsatzgebiet, der Zielpräparation von Querschnitten und TEM-Lamellen, auch die Herstellung komplexer 3D Strukturen möglich. Das Gerät ist zusätzlich mit einem Detektor zur energiedispersiven Röntgenanalyse (EDX) und einem Raith Elphy Multibeam Pattern Generator für einfache Elektronenstrahllithographieaufgaben ausgestattet.

 

Parameter

Elektronensäule (Elstar)

Schottky Emitter
Beschleunigungsspannung: 0,35 kV … 30 kV
Strahlstrom: 0,7 pA … 22nA
Strahldurchmesser: 1 nm @ 15 kV

Ionensäule (Sidewinder)

Liquid Ga-Ionen Quelle
Beschleunigungsspannung: 0,5 kV … 30 kV
Strahlstrom: 1,5 pA … 21nA
Strahldurchmesser: 5 nm @ 30kV

Detektoren

ETD, BSE
TLD-SE, TLD-BSE
CDEM
VCD
Point Electronic 4-Quad BSE Detektor
EDAX – EDX detector

-     5-Achsen Stage
-    Omniprobe Nadel für Lift-Out Prozesse
-    großer Probenraum: Wafer bis 150mm Durchmesser können komplett angefahren werden.